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來源:admin 發(fā)布時間:2025-12-16 次浏覽(lan)
影響鍍鋅層(céng)沉積速度的十(shi)二種要素
(1)前處理不(bu)徹底。工件表面(miàn)有氧化膜,影響(xiang)鋅的正常沉積(ji)。
(2)
(3)工件含碳(tan)量高。高碳鋼、鑄(zhù)鐵件等會降低(di)氫的析出電位(wei)🔴,工件表面析氫(qing)加速,電流效率(lü)降低。
(4)
(5)鍍液(ye)溫度偏低。當鍍(dù)液溫度偏低時(shi)配送的電流密(mi)度♌相應降低,鍍(du)層的沉積速度(du)也必然降低。
(6)鍍液中(zhōng)氫氧化鈉含量(liàng)偏高。氫氧化鈉(na)含量偏高時電(diàn)流效率相☎️應降(jiàng)低。
(7)鍍(du)液中添加劑含(hán)量偏低。添加劑(ji)含量偏低會影(yǐng)響分散能㊙️力,鍍(du)層局部顯得過(guò)薄。
(8)受(shòu)鍍件面積估算(suàn)不足,施鍍時配(pèi)送的電流密度(dù)顯得🌏過小。
(9)工件懸挂(guà)方法不當,與鋅(xin)陽極間距過大(da),應調整位置。
(10)工件過(guo)腐蝕。降低氫的(de)析出電位,工件(jiàn)表面析氫加速(sù)電流效率降低(di),從而影響鋅的(de)沉積速度。應在(zài)酸洗溶液中🏃加(jiā)入适量💃的緩🏃🏻♂️蝕(shi)劑,局部處氧化(hua)皮過厚先用機(jī)械法除去,酸洗(xi)過程中多作檢(jian)查。
(11)陽(yáng)極鈍化。有效面(miàn)積減少,影響電(dian)流的正常分布(bù)。
(12)氫氧(yang)化鈉含量偏低(dī)。若氫氧化鈉含(han)量偏低時,電流(liú)🙇🏻密度📐提不高,陽(yáng)極鈍化
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